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제 목
> > > 입자의 측정은 크게 2종류로 분류할 수 있다 즉 입자의 크기 및 분포도 > 를 측정하는 장비와 입자의 크기 및 계수 장비이다. > 일반적으로 분포도를 측정하는 장비는 0.002 micron부터 2micron 까 > 지 측정하는 장비(dynamic light scattering 원리), 0.02에서 2000 > micron 까지 측정하는(Laser diffraction 원리) 장비들이 있으며 계수는 > 간접적으로 software에 의하여 산출되므로 계수의 data로 활용 할 수 > 없다. > 입자계수 장비로는 전기저항을 이용한 coulter method 와 Photozone > 방식과 scattering detect를 이용한 장비들이 있으나 coulter method는 > 원리상 전해질을 사용하여야 하는 등의 문제로 활용이 안되고 있으며 > Photozone 방식은 물의 오염도, 오일의 오염도, solvent의 오염도 등을 > 측정하는데 광범위하게 사용되고 있다. Scattering detect 방식은 > photozone 의 측정 영역인 0.5 micron 이하 대의 측정에 가능하도록 > In-situ sensor를 이용하는 방식으로 초순수 등 반도체 공정에서 측정범 > 위를 0.1 - 1 micron, 0.3 - 3 micron 등으로 입자의 오염정도가 매 > 우 작은 공정에서 활용하고있다. > Photozone 방식은 Volumemetric Sensor를 이용하는 방식으로서 1 - > 200 micron, 1 - 400 micron, 2.5 - 850 micron, 20 - 2000 > micron 등 광범위한 영역에서 사용하고 있으며 공인된 sensor > calibration 방법에 의하여 calibration 되어서 공급된다. >
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